光刻工艺是半导体芯片制造历程中的一项重要手艺。通过光刻工艺将芯片需要形成的电路图案投影在硅片上，制造出芯片上的电路和芯片的功效就被实现了。近年来随着人工智能、物联网、5G等新手艺的快速生长，芯片需求量也是与日俱增。而要满足这一需求就需要先进的光刻工艺作为支撑。
光刻工艺需要这样的装备去完成：光源、光刻胶、掩膜和步进式投影式光刻机等。其中最为重要的是光刻机，投影式光刻机是半导体工艺中最为重要的制造装备之一，它可以以很高的精度举行芯片电路的曝光，其中台积电公司（TSMC）和英特尔公司所持有的投影式光刻机市场份额最高。
现在，天下局限内仅有几家公司可供光刻机供应商举行采购，划分是荷兰的ASML、日本的尼康和佳能。其中ASML公司是现在全球最大的光刻机供应商，高端投影式光刻机的市场份额跨越90％。
在半导体工业中，光刻工艺被普遍应用于微芯片、传感器、光电子器件、平板显示器件和光通讯等领域。可以说，在现代电子工业中，光刻工艺早已成为不行或缺的一个重要环节。